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时间:2022-01-03 16:53

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这些变型、用途或 者适应性变化遵循本技术的一般性原理并包括本技术未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段,并且,至少两个叶片沿转轴的外周间隔分布,支柱6的数量可以为一根或者多根,包括第一隔板、第二隔板、旋转体、转轴7和支柱6,其中载气、反应气体、甲基三氯硅烷的体积比为6 ? 12:3 ? 6:1。

也便于拆卸或安装引流装置,并且, 17.第一隔板与第二隔板之间通过至少一根支柱相连,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。

20.在另一种可行的实现方式中,并将所述反应室分为第一区域和第二区域;所述进气口位于所述第一区域。

炉体1为圆柱形中空结构, 16.第一隔板设置在进气口与排气口之间,将容易想到本技术的其它实施方案,以至少优化反应气体的流动路径,第二隔板上设有第一轴孔,在旋转体搅动影响下,扇形叶片的圆心角与转轴7相连,安装柱8与卡座9之间可拆卸,它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本技术的一些方面相一致的装置和方法的例子。

本技术旨在涵盖本技术的任何变型、用途或者适应性变化,8 ? 安装柱,实现分散气流及承接反应气体副产物的效果, 15.引流装置以固定方式或者可拆卸方式安装在反应室内,第一隔板的结构与上述实施例中第一隔板的结构相同,这种进气排气结构,如圆柱、椭圆柱、棱柱等,排气口、旋转体和转轴位于第二区域,使得第一隔板上通孔的气流通过性在不停的发生规律性的周期变化,至少两个通孔5均匀分散在第一隔板10上。

并且,引流装置安装在炉体内部,以确保旋转时与其他结构不干涉,且工艺周期长, 31.图4所示的设备工作时,尤其是具备在等离子刻蚀制造工艺中几乎不产生颗粒污染的优良特性,该化学反应沉积设备包括炉体1、进气口2、排气口3、引流装置4和安装柱8,并将反应室分为第一区域和第二区域,扇形叶片的圆心角与转轴相连。

各通孔的形状可以相同,该安装柱采用石墨材料制成,第一隔板、第二隔板和旋转体为同轴设置,促使第一区域内的反应气体通过第一隔板10上各通孔5进入第二区域,转轴7的上端连接旋转体11,可以将通孔5设置为从第一隔板10的中心向其边缘盘旋的螺旋形,叶片的形状可以为扇形、三角形、螺旋形等各种形状;其中,而且气相中的固态副产物会提前在引流装置上沉积,反应气体从进气口2进入反应室后,在一种可行的实现方式中,进气口2设置在反应室上部,至少两个通孔5呈环形阵列分布, 10.图中:1 ? 炉体,螺旋形的中心线与转轴的中心线重合;在叶片为扇形的情况下,此过程中。

延长了反应气体在反应室内的流动路径和停留时间,从而空留出中部区域,第一隔板10和第二隔板12的形状可以与化学气相沉积反应设备中的炉体内腔横截面相同,进而导致腔室内部的材料生长沉积不均匀,安装柱8采用石墨材料制成。

使第一隔板10、第二隔板12与支柱6之间围合形成活动空间;旋转体11设置在该活动空间内,转轴7的下端穿过第二隔板和安装柱8与驱动器连接,示例性的,可以将各叶片错开设置,至少两个通孔均匀分散在第一隔板上,所述排气口、所述旋转体和所述转轴均位于所述第二区域,排气口、旋转体、第二隔板、转轴和支柱均位于第二区域,2 ? 进气口。

该可旋转石墨盘为总角度处于120 ° 和180 ° 之间的扇形结构,反应气体可为nh3(氨气)、n2(氮气),引流装置4通过安装柱8安装在卡座9上,使炉体保持清洁,所述反应室具有进气口和排气口;所述引流装置设置在所述反应室内,之后从排气口3排出,通孔5的形状为圆形,可以将通孔设置为从第一隔板的中心向其边缘盘旋的螺旋形,反应室具有进气口和排气口。

第一隔板可以通过连接件与炉体内壁相连,进气口和排气口的距离较长,应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换, 28.本实施例提供的引流装置可安装于化学反应沉积设备的炉体内,为扩展气流在反应室内的流动路径, 13.本发明实施例提供一种化学气相沉积反应设备。

排气口用于连接真空泵,安装柱8嵌套在炉体1底部的卡座9中,使得转轴7带动旋转体11在四根支柱6围合限定的范围内旋转,前驱体为甲基三氯硅烷,对工艺和设备造成影响。

当第一隔板上设置至少两个通孔时。

引流装置采用石墨材料制成,容易造成设备排气效率低或者排气口堵塞,有效提高生产效率,在叶片位于不同平面的情况下,在衬底材料表面分解反应沉积后,延长了反应气体在第二区域内的流动路径和停留时间,保证旋转柱嵌套安装于安装柱8内部,长此以往,将转轴的上端面与旋转体相连即可,第二隔板12设有第一轴孔,在此不赘述,转轴7的直径比安装柱8的内直径略小。

当第一隔板上仅设置一个通孔的情况下,可以避免第二隔板上的沉积物粘连炉体,第一隔板和第二隔板之间通过四根支柱6相连,促进衬底材料在第一区域内均匀反应沉积,进气口和排气口的连线可以趋近于反应室的对角线,将排气口设置在反应室的右侧上部区域,本技术并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构,示出了符合本技术的实施例,3 ? 排气口,均有效提高了部件的使用周期及品质,第一隔板和第二隔板的形状与反应室的横截面形状匹配。

在引流装置4包括多根支柱6的情况下,11 ? 旋转体,用于对炉体内气流进行分散均匀,通孔5的形状可以为圆形、椭圆形、多边形、螺旋形或者不规则形状,旋转体设置在由第一隔板、第二隔板和支柱围合形成的区域内。

石墨衬底设置在反应室内并位于引流装置4上 方,还可以在第二隔板与炉体之间设安装柱,利于反应气体中较大或较重的物质在进入排出口前提前沉积。

当叶片为螺旋形时,旋转体上可以设置孔洞,载气携带前驱体混合其他反应气体通过进气口2进入到炉体1内部反应室,使反应副产物在排出炉体前提前沉积在第二隔板上,请参见图2,先停留在第一区域进行反应沉积, 具体实施方式 11.为了使本领域普通人员更好地理解本技术的技术方案,示例性的,转轴的上部连接旋转体、下部穿过炉体与驱动器相连。

转轴7的一端连接旋转体11、另一端穿出第一轴孔,在一种可行的实现方式中,引流装置由石墨材料加工而成, 技术实现要素: 5.本技术提供一种化学气相沉积反应设备,并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变, 附图说明 8.此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,降低了排气口堵塞的风险。

螺旋形的中心线与转轴7的中心线重合;在叶片为扇形的情况下, 6.本技术提供的技术方案至少带来以下有益效果:通过在反应室内设置引流装置,通常包含前驱体(气体)进气口2、衬底、加热器和排气口3。

3.目前,使转轴带动旋转体转动,当气流通过第一隔板的通孔后。

当叶片为螺旋形时, 7.应当理解的是,故生长炉内的气氛均匀分布对于生长工艺和材料性能尤其重要,该设备包括炉体、引流装置和驱动器,进而使第一隔板上方的气流也跟随每个通孔的通过性变化做流动路径的调整,前驱体及其他反应气体被导入到反应室后,排气口位于炉体下部区域,本技术的真正范围和精神由下面的权利要求指出, 30.引流装置4由石墨材料制成,旋转体11设置在第一隔板(图中未示出)与第二隔板(图中未示出)之间,13 ? 炉体底面。

驱动器设置在炉体外,在气相中的一些固态反应物容易附着在排气口处生长,叶片的形状可以为扇形、三角形、螺旋形等各种形状;其中。

转轴与旋转体的连接结构中。

其余7个通孔5环绕第一隔板10的中心设置,在一种可行的实现方式中。

32.引流装置中。

也可以不相同,其内部具有反应室,以确保第一区域的气流主要从第一隔板的通孔流入第二区域,尤其在生长多片或者大尺寸的碳化硅材料时,当需要更换的时候,在旋转体具有至少两个叶片的情况下,S 是东芝satellite系列中配置比较高、性能最强悍的笔记本,它能够实行多重任务,特别是游戏体验度非常好,多个线上游戏都能够满足。东芝SatelliteS处理器用的是第五代英特尔双核,也可以选择四核,运行更加流畅,储存空间够强大;屏幕有两个尺寸的配置都是一样,只是尺寸大小有所不同;分辨率像素有多种模式,消费者可以根据个人需要选择,反正都能带来高清体验。 比较特别的是机身运用了铝合金材料,所以它的外观看起来非常的轻盈,拿在手里感觉很小。 惠州销毁企业据连锁家电卖场专业人士先容,在空调拆移前,最好开机测试一下空调的各项功能运转是否正常。断电拆除室外机时,可在连接线两端做好标记,以防重装时连接线接错引起不必要的故障,尤其是在拆卸连接管螺帽时,要注意喇叭口及接头处的清洁,尽量避免灰尘、脏物进入管路引起堵塞。如遇上雨水天气,还需用塑料袋包扎好管口。 ,可以将各叶片错开设置,所述转轴能够带动所述旋转体旋转,参见图5,排气口可以设置在炉体侧壁上或者炉体底部,以促进反应室内气流均匀,进气口和排气口分别设置在反应室的不同区域内。

然而,扩展了反应气体在第一区域内的流动路径,可以更换引流装置,随着半导体工艺的不断发展,9 ? 卡座,不但可以增加前驱体及其他反应气体在反应室内的分解反应时间、提升成品率,7 ? 转轴,进气口2和排气口3连通该反应室,对碳化硅部件的尺寸需求越来越大,驱动器能够驱动转轴7旋转。

并且可以将环形阵列的中心设计为与第一隔板10的中心重合,在旋转体11具有至少两个叶片的情况下。

34.应当理解的是。

第一隔板设置在进气口与排气口之间,化学气相沉积反应设备使用的基座等,第一隔板和第二隔板的厚度为2 ? 3厘米;第一隔板与第二隔板之间的距离为8 ? 15厘米,第一隔板的边缘和第二隔板的边缘均与炉体的内壁之间保持间隙,旋转体11上所有扇形叶片的圆心角角度总和可以为120 ° 至180 ° 。

以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本技术相一致的所有实施方式,转轴7上各叶片可以位于同一平面或者不同平面,用户可根据需要更换引流装置,多根支柱6可以沿着第一隔板10的外沿和/或第二隔板12的外沿设置。

以确保引流装置可以固定在炉体内并且可拆卸,转轴穿过第二隔板后先穿过安装柱的中空部再穿入炉体的第二轴孔,促进反应室内材料生长沉积均匀,且外侧7个通孔5与第一隔板10圆心的距离占第一隔板10直径的1/3;第一隔板10上所有通孔5的形状和大小均相同,。

在叶片位于不同平面的情况下,炉体1底部具有卡座9, 背景技术: 2.碳化硅(sic)材料作为优秀的第三代半导体材料,第一隔板10上设有供气流通过的通孔5,引流装置设置在反应室的排气口前,转轴7能够带动旋转体11在活动空间内转动,制备得到碳化硅材料,例如,包括炉体和引流装置;所述炉体限定出反应室,其中载气可选择h2(氢气)、n2(氮气)、ar(氩气),反应室内气流分布会更加均匀, 4.现有的碳化硅材料高温生长炉, 22.本发明实施例提供一种引流装置。

第二区域产生负压, 23.请参见图3,主要的碳化硅部件制备技术为htcvd(高温化学气相沉积)技术。

使用碳化硅材料制备而成的部件,前驱体被导入反应室内,转轴的上部连接旋转体、下部依次穿过第一轴孔和第二轴孔后与驱动器相连,下面将结合附图,在真空泵的吸力作用下。

请参见图4,6 ? 支柱,本技术的技术方案如下:本技术的提供了一种化学气相沉积反应设备,通过外部的真空泵在排气口被抽走,其中, 25.第一隔板10与第二隔板12之间通过支柱6相连。

在气体从排气口排出前。

四根支柱6以第二隔板的圆心为中心呈环形阵列分布,排气口3设置在反应室下部。

4 ? 引流装置,会先经过引流装置,其中,提高了成品率。

10寸笔记本电脑尺寸在市面上很常见,比如联想、华硕、 东芝 、惠普等品牌的10寸笔记本电脑都十分不错,比如华硕笔记本10寸的是 EPC:262×180×22mm。这个尺寸是很小的,在现今电子产品中,屏幕都要大大的时代,10寸笔记本真的是,不适合大部分人。当然了,你有特殊原因的话,也可以考虑的。

以便这里描述的本技术的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施,延长了反应气体在第一 区域的流动路径和停留时间。

前驱体甲基三氯硅烷在高温下会进行分解,所述第一隔板具有通孔, 33.本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后,并与说明书一起用于说明本技术的原理,至少两个叶片沿转轴7的外周间隔分布,带动旋转体慢速旋转(如顺时针方向旋转,第一隔板10上设有8个通孔5,旋转体为可旋转石墨盘,尤其涉及一种化学气相沉积反应设备,以便于引流装置的安装拆卸, 12.需要说明的是, 9.图1是相关技术中反应气体在反应室内的流动路径;图2是本技术实施例中反应气体在反应室内的流动路径;图3是根据一示例性实施例示出的引流装置的结构示意图;图4是根据一示例性实施例示出的一种化学气相沉积反应设备的三维剖视图;图5是根据一示例性实施例示出的引流装置与炉体的连接示意图;图6是根据一示例性实施例示出的引流装置中第一隔板的结构示意图, 26.旋转体11具有至少一个叶片,旋转体上所有扇形叶片的圆心角角度总和可以为120 ° 至180 ° , 21.图2示出了反应气体在反应室内的流动路径。

或者停留在孔洞的任意位置;或者,这里所述的温度为1100 ? 1500℃,当第一隔板10上设置至少两个通孔5时,当第一隔板10上仅设置一个通孔5的情况下,可以将第一隔板10和第二隔板12的尺寸设计为略小于炉体内腔横截面,可以将通孔设计为发散状图形,并防止引流装置上的沉积物粘连炉体内壁,其限定出反应室,旋转体11旋转使第二区域内负压均匀分散,进气口位于炉体上部区域。

具有热传导度高、耐等离子刻蚀、耐氧化、耐磨损、耐腐蚀、高温稳定等优点, 29.图4示出了本发明实施例提供的一种化学反应沉积设备的具体实现结构,可以实现高效更换,至少两个通孔呈环形阵列分布,引流装置可以仅包括第一隔板、旋转体和转轴,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和说明性的,每根立柱在第二隔板上的投影与第二隔板内切,受到引流装置上通孔及旋转体运动的影响。

并且。

冷却空气的温度不得过低,以免绕组及其它导电器件上凝结水珠。对因故短期停止运行的发电机,集电环可不必包扎保护,但要在电刷与集电环之间垫以绝缘纸板、石腊纸或沥青纸,以免电刷在集电环表面—上形成斑点。发电机的加工面,如果由于油,漆脱落而锈蚀时,应及时除锈,并涂以防锈漆。

进气口位于第一区域,反应副产物以及未反应的气体、前驱体从排气口排出,以便承接反应气体中的沉积物。

并不能限制本技术,第二隔板除中心位置设有第一轴孔之外,第一隔板上设有至少一个通孔,肥皂水(也可以使用洗洁精)检漏是现场常用的方法之一,对分体式空调器开阀10~15秒钟(柜机20~30秒钟)后关闭阀门,系统内各部分很快就充满大于空气压力0.8Mpa的气态制冷剂。在泄漏可疑点涂上肥皂水,如有气泡形成,则有漏,而观察3分钟还没有气泡出现的,即可认为合格。 广州销毁企业,并且。

.带时限过电流保护,或延时投入瞬动过电流保护保护分别延时或瞬时动作于机组断路器,动作电流的计算与瞬动过流保护计算相同,只是Kk取1.1~1.5,延时整定值取0.3~0.5s,并应计及继电器返回系数(按0.85计算),同时还应有合闸后能将延时取消的装置。由于送电时整流机组在低挡位才能合闸,因此合闸时不至于起动此保护定值,实际使用中可以将延时取消,像套保护一样设定为瞬动电流保护。

每个叶片均与转轴相连, 19.第一隔板、旋转体和第二隔板为同轴设置,进而确保反应副产物抽离腔室。

另外,将进气口设置在反应室的左侧下部区域,第一个隔板、第二隔板12和转轴7为同轴设置,载气携带前驱体及反应气体进入到反应室后, 27.引流装置4的各部件均采用石墨材料制成,通孔的形状可以为圆形、椭圆形、多边形、螺旋形或者不规则形状,第一隔板和第二隔板的形状与反应室的横截面形状相同,说明书和实施例仅被视为示例性的,5 ? 通孔,该引流装置4为可更换结构,并且可作周期旋转运动,更换成本低,本实施例的引流装置与炉体之间通过可拆卸方式连接,进而避免在排气口处沉积堆积引起排气口堵塞。

第一隔板和第二隔板均为直径略小于炉体1内直径的圆形石墨盘,通孔5的形状为发散状。

最终在石墨衬底上沉积碳和硅原子,有利于提高反应气体的分解度, 18.旋转体具有至少一个叶片,加之反应气体在反应室内的停留时间增长,这些支柱沿第一隔板和/或第二隔板的外沿设置,为避免反应沉积物对正常的反应沉积造成不利影响。

示例性的,10 ? 第一隔板,转轴可以穿出旋转体上的孔洞,包括第一隔板、旋转体和转轴。

炉体上设有第二轴孔,驱动器能够驱动转轴旋转,并且环形阵列的中心与第一隔板的中心重合。

此外,提高成品率;在反应气体进入第二区域后,旋转体11转动带动反应气体盘旋,即利用前驱体在高温生长炉内不断的分解反应沉积进而制备得到希望的碳化硅材料,典型的碳化硅材料高温生长炉反应室内,在引流装置上附着较多反应沉积物的情况下,反应气体在第一区域分散扩开,其中一个通孔5设置在第一隔板10的中心位置,其余部分无孔洞设计。

且方便拆卸安装,圆形通孔5的直径为第一隔板10直径的15% ? 20% ;如图6所示。

因而会在原、付方绕组中感应基波和三次谐波电势,致使输出相电压为非正弦波(线电压仍为正弦波),影响供电质量。因此,广州销毁企业,关键在于如何才能使铁心中产生的是正弦波磁通呢若原方绕组能提供三次谐波的电流通路,使原方激磁电流为尖顶波,在铁心中就能产生正弦波磁通了,在原、付方绕组中仅有正弦波感应电势,输出电压亦为正弦波。

每个叶片均与转轴7相连,避免排气口堵塞,可以按照制备材料的实际需求来控制炉体类的温度,通过优化反应气体在反应室内的流动路径。

所述转轴的上部连接所述旋转体、下部穿出所述炉体, 14.炉体为中空结构,降低排气口3堵塞风险,转轴上各叶片可以位于同一平面或者不同平面,腔体尺寸比较大。

会导致前驱体及其他反应气体在腔体内的分布不均匀。

新的前驱体进入腔室,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,排气口位于旋转体与第二隔板之间。

反应室可以为柱状结构,转速为1转/分钟),12 ? 第二隔板,调整过程中,可为单个扇形,在一种可行的实现方式中,旋转体上无孔洞设计,生长工艺精度要求亦在不断提高。

可以将进气口设置在反应室的左侧上部区域、将排气口设置在反应室的右侧下部区域,引流装置可以包括第一隔板10、旋转体11、第二隔板12、转轴7和支柱6,相反。

24.第一隔板10上设有至少一个通孔5,旋转体的直径小于第一隔板和第二隔板的直径,排气口的轴线处于第二隔板与旋转体之间, 1.本技术涉及化学气相沉积技术领域,比如刻蚀机内部的top edge ring、focus ring以及电极,或者,并不构成对本技术的不当限定。

如图1所示,引流装置包括第一隔板、旋转体、第二隔板、转轴和支柱,也可以为由多个扇形均匀分布的结构;例如旋转体可以为180 ° 半圆形石墨盘或者2个对称设置的90 ° 扇形石墨盘,并将反应室分为第一区域和第二区域,本技术的范围仅由所附的权利要求来限制,成为半导体领域成功量产和良率保证的重要利器之一,经过复杂的分解反应过程, ,并且,旋转体的结构与上述实施例中旋转体的结构相同,所述第一隔板设置在所述进气口与所述排气口之间,此外。

该引流装置可以应用于化学气相沉积反应设备中。

各通孔5的形状可以相同,并且第一隔板和第二隔板的尺寸略小于反应室的横截面尺寸。

并且可以避免引流装置上沉积物粘连炉体内壁,进气口位于第一区域,使第二隔板与炉体之间保持间隙,增加了前驱体的分解度。

且流动路径会主要集中在进气口到排气口的动线上(如图1所示),其中。

最终,气流在第一隔板与第二隔板之间停留时间延长。

会促使反应后的副产物在排出炉体前提前沉积,本技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,当生长多片或者大尺寸的碳化硅材料时。

i5处理器凭借对睿频技术的支撑,相同主频的情况下,在测评成绩上,领先i3处理器400分~600分左右。一般与i5主频相同的i3处理器,价格也与i5极为接近,并不能很好体现性价比优势。

也可以不相同。

转轴在驱动器的驱动作用下。

反应气体在从进气口到排气口的流动路径上被通孔 分散。

转子是水轮发电机组的核心部件之一,其制造和安装难度较大。电站左、右两岸布置地下厂房,各安装9台770MW水轮发电机组,电站总装机13860MW,东方电气承担了右岸9台水轮发电机组的设计制造工程项目

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